Skip to content
  • Рус
  • Eng
| info@technoinfo.ru|
+7 499 270-66-26
Your partner in nanoscience research
  • Catalog
  • News
  • Projects
  • Partners
  • Service
  • About Us
  • Contacts
  • Surface Analysis
    • Electron microscopy
      • Scanning Electron Microscopy (SEM)
      • Transmission Electron Microscopy (TEM)
      • Dual Beam Systems (DualBeam)
      • Системы фокусированного ионного пучка (FIB)
      • Oil & Gas and Geology (O&G)
      • Application Software (SW)
    • Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry (TOF SIMS)
    • X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS)
    • Low Energy Ion Scattering (LEIS)
    • Digital Optical Microscopy (OM)
  • Structural and chemical research
    • Single crystal X-ray difraction
      • Protein systems
      • Small molecules systems
      • Accessories
    • Small/wide angle X-ray scattering (SAXS/WAXS)
    • Optical spectroscopy
      • Circular Dichroism Spectrometers
      • Fluorescence Spectrometers
      • TCSPC electronics
  • Biology and biotechnology
    • Electron microscopy
      • Сканирующая электронная микроскопия
      • Просвечивающая электронная микроскопия
      • Криоэлектронная микроскопия
      • Пробоподготовка для электронной микроскопии
    • Optical spectroscopy
      • Fluorescence spectroscopy
      • Circular dichroism spectroscopy
      • Stopped-flow spectroscopy
      • Systems for the analysis of affinity, stability and quality of proteins
    • Fluorescence microscopy
      • Highcontent screening and bioimaging
      • FLIM и STED микроскопы
    • Single Crystal Diffractometry
    • Cell Clone Selection and Patch Clamp System
      • Clone screening systems for monoclonality verification and colony picking
      • Electrophysiology
    • Tomography
  • Plasma Physics
    • Lithography
    • Plasma chemistry
    • Ion-beam implantation
  • Geology and Petrophysics
    • Core documentation
    • Томография керна
    • Automated Mineralogy
    • Field analysis systems
    • Special Software
    • Geochemistry, Geochronology and Petrography
  • Technological equipment
    • Cryogenics
    • Heat Treatment
    • Морские краны
  • Surface Analysis
  • Structural and chemical research
  • Biology and biotechnology
  • Plasma Physics
    • Lithography
    • Plasma chemistry
      • CVD and PVD Equipment
      • Technologies
      • Технологические процессы
    • Ion-beam implantation
  • Geology
  • Technological equipment
/ Catalog / Plasma Physics / Plasma chemistry / CVD and PVD Equipment / PlasmaPro800 Platform

PlasmaPro800 Platform

(Рус)

Универсальные решения для процессов плазменного травления и осаждения: PlasmaPro 800 обеспечивает процессы плазменного травления и осаждения на подложках большой площади, система выполнена в компактном корпусе с удобной открытой загрузкой, это делает её простой в использовании, без потери в качестве процессаPlasmaPro 800 с диаметром столика 380 мм или 460 мм может обрабатывать пластину размером 300мм (12″) или партию пластин до 43 штук размером 50 мм (2″), что позволяет использовать системы на этой платформе для серийного производства

PlasmaPro 800 Etch

Vendor: Oxford Instruments Plasma Technology

RIE

PlasmaPro800 Deposition

Vendor: Oxford Instruments Plasma Technology

PECVD

Technoinfo
  • Catalog
  • About Us
  • Service
  • Projects
  • Partners
  • News
  • Contacts
+7 499 270-66-26

107241 Moscow, Shchelkovskoe highway, d. 23A, rooms 38, 39, 40

info@technoinfo.ru
Hint about us:

Write to us

* required fields are marked

captcha

Copyright © 2007– 2022 Technoinfo Ltd
Site creation — Anny'Jess Agency
Написать директору


captcha

Запрос коммерческого предложения

Tecnai™ Просвечивающий электронный

* required fields are marked







captcha

Callback

* required fields are marked



captcha

Запрос сервисной поддержки

Tecnai™ Просвечивающий электронный

* required fields are marked







captcha

Запрос отправлен