Травление меди (Cu) – анализ отказов

купить оборудование Oxford Instruments Plasma Technology Травление меди (Cu) - анализ отказов, описание процесса и оборудование

Лаборатория OIPT: безостаточное травление Cu



Технологические особенности:
  • травление с помощью ВЧ генератора с параллельными электродами и частотой возбуждения плазмы - 13.56 МГц
  • среда: хлорсодержащая плазма
  • подача рабочего газа через газовый душ
Результаты:
  • скорость: > 300 нм/мин
  • равномерность 5% (по пластине 200 мм)
  • селективность к SiO2 1 : 1
  • безостаточное травление