Нитрид Титана (TiN)

Распыление нитрида титана (TiN), описание процесса и оборудование


Оборудование:
PlasmalPro System 400
Количество магнетронов: до 4 при размере мишени 200 мм
Технологические особенности: Магнетронное распыление вращающийся столик способ питания - импульсный постоянный ток
Результаты: сопротивление 2х10-6 Ом*м (толщина слоя - 400 нм) отражение (на длине волны 436 нм относительно Si) > 45 % (толщина слоя 500нм) скорость нанесения: 5 нм/мин (при вращении); 60 nm/ min (при статике) tin_gr1.gifЗависимость сопротивление TiN от потока азота во время техпроцесса.
tin_gr2.gif Зависимость коэффициента отражения TiN (относительно Si) от потока азота во время техпроцесса.