Ta2O5/SiO2 для DWDM

купить оборудование Oxford Instruments Plasma Technology

Напыление SiO2/Ta2O5 для DWDM (мультиплексирование с разделением по спектральной плотности)



Оборудование: Ionfab 300 Plus
Результаты:
скорость осаждения:
  • Ta2O5 - 3.35 A/с (1000 эВ, 450 мА)
  • SiO2 - 3 A/с (1000 эВ, 450 мА)
равномерность:
  • по заданной подложке радиусом 50-95 мм +/- 0,03%
  • повторяемость от подложке к подложке +/- 0,03%
коэффициент преломления:
  • Ta2O5 - 2,065+/-0,002 (на 1550 нм)
  • SiO2 - 1,470+/-0,001 (на 1550 нм)
контроль внутренних напряжения: от 150 до 200 МПа
время работы: 21 час (104 слоя)
dwdm_tra.gif