Skip

Оборудование для CVD и PVD

Технологии плазмохимического осаждения из газовой фазы (PECVD), атомно-слоевого осаждения (ALD), ионно-лучевого напыления (IBSD), магнетронного распыления широко применяются в наноэлектронике, оптоэлектронике, производстве МЭМС, тонкопленочных гибридных схем, а также в R&D-лабораториях для модификации поверхностей материалов (нанесения токопроводящих, защитных, диэлектрических слоёв, масок).

Мы предлагаем оборудование для химического осаждения из газовой фазы и вакуумного напыления покрытий, разработанное лидерами мирового рынка - Oxford Instruments Plasma Technology (OIPT) и Scientific Vacuum Systems (SVS).

  • Системы серии PlasmaPro (OIPT) предлагают комплексные решения для исследовательских лабораторий и организации серийного производства. Гибкая конфигурация оборудования позволяет выбрать оптимальный вариант исполнения для реализации процессов PECVD, ICP-CVD, комбинированных процессов плазменно-стимулированного осаждения из газовой фазы и термического осаждения из газовой фазы (PECVD-CVD, LPCVD). Основные модули платформ PlasmaPro 100, PlasmaPro 133 PlasmaPro NGP 1000 могут использоваться как в качестве отдельной установки, так и в составе кластерной системы оборудования с установками FlexAl, Ionfab, Nanofab и другими модулями, совместимыми по стандарту MESC.
  • Компания Scientific Vacuum Systems специализируется на разработке систем физического осаждения покрытий. Мы предлагаем магнетронные, электронно-лучевые и ионно-лучевые установки CVS, которые могут быть поставлены в различных конфигурациях, адаптированных для потребностей R&D-лабораторий или массового производства.

Для подбора оптимального варианта исполнения системы вакуумного напыления или плазмохимического осаждения из газовой фазы и расчета цены оборудования Вы можете оставить заявку на сайте.

Платформа PlasmaPro100

Каталог систем обработки полупроводниковых пластин. Заказать оборудование на платформе PlasmaPro100 для процессов травления и осаждения в компании ТехноИнфо

Платформа PlasmaPro80

PlasmaPro80 - платформа для компактных систем с открытой загрузкой для плазмохимических процессов (RIE, ICP etch, ICP CVD и PECVD).

Платформа PlasmaPro800

PlasmaPro800 - платформа с открытой загрузкой и большой вместимостью пластин для реактивного ионного травления и плазменного осаждения.

Платформа PlasmaPro1000

PlasmaPro1000 - платформа для максимальных производительности процессов травления и осаждения ориентированных на LED промышленность.

Plasmalab System400

Vendor: Scientific Vacuum Systems (SVS)

The PlasmalabSystem400 offers the flexibility of dc, pulsed dc, rf and reactive magnetron sputtering for batch or single-wafer PVD processing in production or research & development

Plasmalab System400

Vendor: Scientific Vacuum Systems (SVS)

The PlasmalabSystem400 offers the flexibility of dc, pulsed dc, rf and reactive magnetron sputtering for batch or single-wafer PVD processing in production or research & development

FlexAL

Vendor: Oxford Instruments Plasma Technology

Oxford Instruments’ FlexAL product family provides a new range of flexibility and capability in the engineering of nanoscale structures and devices by offering remote plasma atomic layer deposition (ALD) processes and thermal ALD within a single system to deliver: Maximum flexibility in the choice of materials and precursors Low-temperature processes enabled by plasma ALD Low damage maintained by the use of remote plasma Controllable, repeatable processes via recipe-driven software interface

Nanofab700

Vendor: Oxford Instruments Plasma Technology

The Nanofab700 delivers high performance growth of nanotubes and nanowires with in-situ catalyst activation and rigorous process control.  

Ionfab 300Plus

Vendor: Oxford Instruments Plasma Technology

Ionfab300Plus is a modular System designed for ion beam etchingand deposition. It is used in a wide variety of processes,particularly in the Semiconductor and Optical Coating Industries

Plasmalab System400

Vendor: Scientific Vacuum Systems (SVS)

The PlasmalabSystem400 offers the flexibility of dc, pulsed dc, rf and reactive magnetron sputtering for batch or single-wafer PVD processing in production or research & development